觀點網訊：11月10日消息，韓國三星電子與SK海力士正競相訂購ASML的極紫外（EUV）光刻設備，以支撐下一代存儲芯片量產擴張，兩家公司圍繞EUV光刻機交付排期展開爭奪。
消息人士指出，兩者各自投入規模介於10萬億至20萬億韓元（約526億至1053億元人民幣），目標是鎖定ASML在2027至2028年的稀缺產能，為先進DRAM與HBM擴產卡位。另據韓媒報道，兩家公司各自投資上限或達到20萬億韓元（約合人民幣992億元）。
產能方面，ASML已在第三季財報會議上示警，即便2027年EUV產能提升30%、2028年再擴產30%，仍無法滿足客戶需求。此前ASML宣佈，EUV設備將出現供應短缺，鎖定設備交付檔期已成為擴大先進DRAM產能的關鍵。
隨着先進DRAM供應日趨緊張、市場需求持續增長，兩家公司均在加緊鎖定光刻機供應。業內人士指出，兩家公司都在考慮提前下單以確保供應。