觀點網訊：11月5日至10日，第九屆中國國際進口博覽會在國家會展中心（上海）舉行，上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）自主研發的新一代前道乾式光刻機通用技術平臺模型在展會上正式亮相，展示我國前道光刻裝備自主化的階段性成果。

本次展出的模型採用透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路佈局。該平臺為國產標準化前道光刻裝備架構，適配I-line、KrF兩類主流技術路線，高精度物鏡與照明系統、高速雙工件臺與掩模臺、一體化自動物料傳輸系統、高精度對準調平傳感系統均實現全鏈條自主可控。

據IT之家消息，目前國產前道乾式光刻機成像性能已與國際同類領先產品水平相當，套刻精度、生產效率緊密追趕國際標杆。多臺設備已在國內頭部邏輯、存儲量產線長期穩定運行，累計支持產線流片超千萬片，設備有效運行率超92%。

據測算，可將生產效率提升約35%。

據IT之家介紹，SMEE成立於2002年3月，位於上海，隸屬上海電氣集團，註冊資本約2.66億元人民幣，是國內唯一具備前道乾式光刻機穩定量產交付能力的製造商。